Blog Details

Lorem ipsum dolor sit amet, consectetur adipiscing elit. Ut elit tellus, luctus nec ullamcorper mattis, pulvinar dapibus leo.

В Анасеули подвели итоги применения новых удобрений на чайных и черничных плантациях

Author

Michael Chen

Senior Web Developer

В конце прошлой недели в Анасеули (регион Озургети, Грузия), в Институте чая, субтропических культур и чайной промышленности Грузинского аграрного университета состоялась встреча-семинар на тему: «Итоги применения новых удобрений и эффективность схем подкормки сельскохозяйственных культур». Мероприятие прошло в рамках сотрудничества университета и международной компании-производителя минеральных удобрений. Гости ознакомилиcь с деятельностью университета, затем посетили чайное производство и плантации черники ряда компаний, а также анасеульское экспериментальное чайное производство и анасеульский комбинат по переработке фруктов. День завершился традиционной чайной дегустацией для всех участников мероприятия.  

Related Topics

Sarah Anderson

Senior Tech Writer & Developer Advocate
Sed ut perspiciatis unde omnis iste natus error sit voluptatem accusantium doloremque laudantium. Passionate about creating content that bridges the gap between developers and end-users.

Discussion (8)

Proin iaculis purus consequat sem cure digni ssim donec porttitora entum suscipit rhoncus. Accusantium quam, ultricies eget id, aliquam eget nibh et. Maecen aliquam, risus at semper.

Quisque ut nisi. Donec mi odio, faucibus at, scelerisque quis, convallis in, nisi. Suspendisse non nisl sit amet velit hendrerit rutrum. Ut leo. Ut a nisl id ante tempus hendrerit.

Cras ultricies mi eu turpis hendrerit fringilla. Vestibulum ante ipsum primis in faucibus orci luctus et ultrices posuere cubilia Curae.

Nam commodo suscipit quam. Vestibulum ullamcorper mauris at ligula. Fusce fermentum odio nec arcu.

Vivamus elementum semper nisi. Aenean vulputate eleifend tellus. Aenean leo ligula, porttitor eu, consequat vitae, eleifend ac, enim.

Share Your Thoughts

Your email address will not be published. Required fields are marked *